电子业超纯水设备如何助推晶片发展趋势?
2021-10-30 来自: 西安康诺环保科技有限公司 浏览次数:557
电子业超纯水设备如何助推晶片发展趋势?
一提到电子设备,我相信大家都很了解。随着大家对电子设备的需求,电子器件产业链也拥有了广阔的发展室内空间。电子业超纯水设备如何助推晶片发展?
超纯水设备在电子工业中的应用和水环境的规范不低于医疗行业,超纯水系统用于电子设备生产制造时,水的质量直接影响到产品质量。因此,大多数的电子器件生产企业都会选择超纯水设备对电子行业的源水进行解决,使源水达到用水标准。
根据统计,一块芯片须 数十种加工工艺与技术要求,每一种工艺过程都代表着新的技术水平。因此,晶片生产过程对水环境要求很高,杂质在晶片上对电阻器危害很大。在晶片中夹杂少量杂质时,杂质分子周围的有规律势场会振荡,从而形成附加束缚态。因此,电子工业超纯水设备的出水阻达到18MΩ*cm(25℃)。该水中除了水分基本不含任何杂质,完全满足晶片生产制造用水要求,解决了现阶段中国的“关键”难题。
电子业超纯水设备如何助推晶片发展趋势?
电子业超纯水设备也选用了ro反渗透预除盐技术,这保证了 了机器设备出水质量。同时EDI控制部分废水产生量小,不容易造成环境污染,经济效益显著。
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